硅激光反射镜基片

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更新时间：2026-05-26
产品介绍：硅激光反射镜基片采用高导热率硅基底，专为高热负荷的高功率与超快激光应用设计。该基片针对严苛光学装置中的高效散热优化，有助于减轻热致波前畸变。硅激光反射镜基片设计为可直接镀膜的基底，为定制宽带或低色散反射镜方案提供灵活基础。提供12.7mm、25.4mm和50.8mm直径规格，可灵活集成至各类激光系统配置中。
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硅激光反射镜基片

硅激光反射镜基片

硅基底，适用于高热负荷超快实验装置

λ/10表面平整度与40-20表面质量

提供标准直径规格，便于镀膜与系统集成

TECHSPEC®硅激光反射镜基片采用高导热率硅基底，专为高热负荷的高功率与超快激光应用设计。该基片针对严苛光学装置中的高效散热优化，有助于减轻热致波前畸变。TECHSPEC®硅激光反射镜基片设计为可直接镀膜的基底，为定制宽带或低色散反射镜方案提供灵活基础。提供12.7mm、25.4mm和50.8mm直径规格，可灵活集成至各类激光系统配置中。

平行度（弧分）	＜3
有效孔径（%）	90
后表面	工业级抛光
表面质量	40-20
涂层规格	无
表面平整度（P-V）	λ/10
涂层	未镀膜
基底	光学级硅

直径（mm）	厚度（mm）	涂层	产品编码
12.70	3.18	未镀膜	#90-138
25.40	6.35	未镀膜	#90-139
50.80	9.53	未镀膜	#90-140

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