双波段低 GDD 超快/阿秒多层反射镜
- 产品型号：
- 更新时间：2023-12-21
- 产品介绍：双波段低 GDD 超快/阿秒多层反射镜TECHSPEC® 双波段低 GDD 超快反射镜在常见的 Yb 掺杂激光谐波频率上保持高反射率和接近零的群延迟色散。 利用离子束溅射镀膜技术，这些反射镜将使用其他传统镀膜工艺时常见的散射和吸收损失降至最/低。 TECHSPEC® 双波段低 GDD 超快反射镜通常用于光束控制应用，因为它们将保持超短脉冲持续时间，而使用更传统的激光反射镜时很难保持这种持续时间。
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产品介绍
| 品牌 | 其他品牌 | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 组件类别 | 光学元件 | 应用领域 | 医疗卫生,环保,化工,电子,综合 |
双波段低 GDD 超快反射镜
用于超快光束转向的高反射率和低 GDD
离子束溅射镀膜最大限度地减少散射和吸收损失
设计波长范围内的近零群延迟色散
TECHSPEC® 双波段低 GDD 超快反射镜在常见的 Yb 掺杂激光谐波频率上保持高反射率和接近零的群延迟色散。 利用离子束溅射镀膜技术，这些反射镜将使用其他传统镀膜工艺时常见的散射和吸收损失降至最/低。 TECHSPEC® 双波段低 GDD 超快反射镜通常用于光束控制应用，因为它们将保持超短脉冲持续时间，而使用更传统的激光反射镜时很难保持这种持续时间。
通用规格
| 入射角 (°): | 45 | 镀膜类型: | S1: Dielectric S2: Stress-compensating |
| 波长范围 (nm): | 500 - 540, 1000 - 1070 | ||
| 后表面: | Commercial Polish | 镀膜规格: | Rs>99.9% @500-540nm; Rp>99.8% @505-530nm; Rs>99.9% @1000-1070nm, Rp>99.8% @1000-1070nm |
| 基底: | Fused Silica | ||
| 平行度（弧分）: | <3 | ||
| 有效孔径 (%): | >90 | ||
| 典型应用: | Beam transport of 1st and 2nd harmonic of Yb:doped lasers | <35fs2@ 500 - 540nm (s-pol) <50fs2@ 505 - 530nm (p-pol) <20fs2@ 1000 - 1070nm (s-pol) <40fs2@ 1000 - 1070nm (p-pol) | |
| 镀膜: | Ultrafast (500-540, 1000-1070nm) | ||
| 表面质量: | 10-5 | GDD Specification: | |
| 设计波长 DWL (nm): | 515, 1030 | ||
产品型号
| 标题 | 产品编码 |
| 515, 1030nm, 12.7mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror | #17-286 |
| 515, 1030nm, 25.4mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror | #17-287 |
| 515, 1030nm, 50.8mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror | #17-288 |
UltraFast Innovations (UFI) EUV 阿秒多层反射镜
设计用于 330 阿秒脉冲 @ 65eV (19nm)
具有 38% 峰值反射率的多层镀膜
≤1Å 表面粗糙度超抛光基材
13.5nm 设计的 EUV 平面镜和 EUV 球面镜也可提供
UltraFast Innovations (UFI) 极紫外 (EUV) 阿秒多层反射镜专为控制、聚焦和整形阿秒脉冲而设计。 它们的多层镀膜以 65eV (19nm) 为中心，带宽为 6eV (1.8nm)，为 s 偏振光提供 38% 的峰值反射率。 这些反射镜支持时间持续时间为 330 阿秒的 EUV 脉冲。 UFI 极紫外 (EUV) 阿秒镜非常适合基于高次谐波 (HHG)、自由电子激光器 (FEL) 或其他量子光学应用的阿秒脉冲生成和整形。 提供直径为25.4mm的平面镜和凹面镜； 如果您的应用需要具有定制中心能量、带宽或其他规格的 EUV 多层反射镜，请联系我们。
通用规格
| 直径 (mm): | 25.40 ±0.13 | 基底: | Fused Silica |
| 后表面: | Commercial Polish | 镀膜规格: | Rs > 38% @ 65eV/19nm |
| 表面质量: | 10-5 | 镀膜: | EUV Multilayer (19nm) |
| 入射角 (°): | 5 | 有效孔径 (%): | 80 |
| 设计波长 DWL (nm): | 19 | 边缘: | Fine Ground |
| 表面粗糙度（埃）: | <1 | Center Energy (eV): | 65 ±2 |
| Bandwidth (eV): | 6 | Supported Pulse Duration: | 330 attoseconds |
| 边缘厚度 ET (mm): | 6.35 ±0.20 |
产品型号
| 标题 | 产品编码 |
| 25.4mm Dia., 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Flat Mirror | #16-765 |
| 25.4mm Dia. x 250mm EFL, 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Concave Mirror | #16-766 |
| 25.4mm Dia. x 500mm EFL, 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Concave Mirror | #16-767 |
技术数据
超快增强型银膜离轴抛物面 (OAP) 反射镜
用于 Ti:sapphire 和 Yb:doped 激光器的超快增强型银膜
600 - 1050nm 范围的群延迟色散低 (0±20fs2)
<50Å RMS 表面粗糙度，以最/大程度地减少散射
TECHSPEC® 超快增强型银膜离轴抛物面 (OAP) 反射镜用于准直或聚焦指/定偏移角度的入射光。这些反射镜镀有超快增强型银膜，在 600 - 1050nm 范围内提供 >99% 的反射率，同时保持 0 ±20fs2的低群延迟色散 (GDD)。这些反射镜的离轴设计将焦点与光束路径分开，从而在焦点周围提供更多交互空间，而不会干扰入射光束。TECHSPEC 超快增强型银膜 OAP 反射镜非常适合聚焦来自中低功率超快激光器的激光，包括 Ti:sapphire 和 Yb:doped 光纤激光器，同时最大限度地减少超快脉冲的时间扩展。带有垂直于光轴的孔的安装板可用于将这些反射镜安装到台式系统中。
通用规格
| 焦距容差 (%): | ±1 | 涂层规格: | Ravg>99% @ 600 - 1000nm, 0° Rs>99% @ 540 - 1000nm, 45° Rp>98.5% @ ~730 - 870nm, 45° |
| 波长范围 (nm): | 600 - 1050 | ||
| 面形计算 (RMS): | λ/4 | ||
| 偏离角度 (°): | 90 | 镀膜类型: | Ultrafast Enhanced Silver |
| 表面粗糙度（埃）: | <50 RMS | 反射波前, RMS: | λ/8 |
| 表面质量: | 80-50 | 基底: | Aluminum 6061-T6 |
| 涂层: | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | ||
产品型号
| Dia. (mm) | EFL (mm) | 涂层 | 产品编码 |
| 12.70 | 12.70 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-133 |
| 12.70 | 25.40 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-134 |
| 12.70 | 203.20 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-138 |
| 25.40 | 25.40 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-139 |
| 25.40 | 50.80 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-140 |
| 25.40 | 203.20 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-146 |
| 50.80 | 50.80 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-147 |
| 50.80 | 190.60 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-152 |
技术数据
600-1050nm Ultrafast-Enhanced Silver
双波段低 GDD 超快/阿秒多层反射镜双波段低 GDD 超快/阿秒多层反射镜
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